Dettaglio - Gestione integrata procedure di pagamento

Dettaglio progetto

Codice: DM23176
Cur: HRG11985
Iniziativa: L.297/12
Data Presentazione: 16/05/2005
Titolo: Realizzazione di un Laboratorio integrato per lo sviluppo di attrezzature avanzate e nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio (SiC).
Costo Ricerca Domanda: 11.130.200,00 € di cui Fondi nazionali 820.000,00 €
Costo Formazione Domanda: 1.261.276,00 € di cui Fondi nazionali 45.224,00 €
Costo Ricerca Ammesso: 5.021.900,00 € di cui Fondi nazionali 531.200,00 €
Costo Formazione Ammesso: 738.556,00 € di cui Fondi nazionali 0,00 €

Beneficiari

Ragione Sociale	Codice Fiscale	Codice Anagrafe
CNR - Consiglio Nazionale delle Ricerche	80054330586	F129003U
UNIVERSITA' DEGLI STUDI DI ROMA "LA SAPIENZA"	80209930587	F17903U4
E.T.C. S.R.L. - Epitaxial Technology Center	03047580877	52872ACA
NU.M.I.D.I.A. S.R.L.	05602121005	56842BKT

Impegni da primo decreto di ammissione al finanziamento del 31/10/2006

Importo	Fondo	Ricerca/Formazione	Voce di spesa
27.000,00 €	FAR	Sviluppo Precompetitivo	Contributo nella Spesa
429.435,00 €	FAR	Sviluppo Precompetitivo	Credito Agevolato
1.081.900,00 €	FAR	Sviluppo Precompetitivo	Costi Ammessi
94.500,00 €	FAR	Ricerca Industriale	Contributo nella Spesa
3.940.000,00 €	FAR	Ricerca Industriale	Costi Ammessi
738.556,00 €	FAR	Formazione	Costi Ammessi
367.805,00 €	PON	Sviluppo Precompetitivo	Contributo nella Spesa
738.556,00 €	PON	Formazione	Contributo nella Spesa
978.400,00 €	FAR	Ricerca Industriale	Credito Agevolato
2.366.050,00 €	PON	Ricerca Industriale	Contributo nella Spesa