Ministero dell'Istruzione, dell'Università e della Ricerca

Dettaglio progetto

Codice
4399
Cur
WXE10462
Iniziativa
L.46/4
Data Presentazione
01/07/1998
Titolo
Prototipo di maschera per fotolitografia in biossido di silicio prodotto con processo sol-gel.
Costo Ricerca Domanda
760.224,56 € di cui Fondi nazionali 760.224,56 €
Costo Formazione Domanda
0,00 € di cui Fondi nazionali 0,00 €
Costo Ricerca Ammesso
672.943,34 € di cui Fondi nazionali 672.943,34 €
Costo Formazione Ammesso
0,00 € di cui Fondi nazionali 0,00 €
Beneficiari
Ragione Sociale Codice Fiscale Codice Anagrafe
GDE Gel Design and Engineering Srl 0
Impegni da primo decreto di ammissione al finanziamento del 14/04/1999
Importo Fondo Ricerca/Formazione Voce di spesa
672.943,34 €
FAR Ricerca Industriale Costi Ammessi
235.530,17 €
FAR Ricerca Industriale Contributo nella Spesa
403.766,00 €
FAR Ricerca Industriale Credito Agevolato

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